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美日半导体设备公司出货受限，韩国公司发力中国市场

半导体产业纵横整合编辑：高诗琴发布于：2023-12-11 18:44

由于受到美国政府限制，中国企业无法再从美国、日本或荷兰公司获得先进的芯片制造工具，韩国企业看到了这样的机遇，正在努力进入中国市场。

据韩国媒体 TheElec 报道，韩国光学晶圆检测设备制造商Nextin正在扩大其在中国半导体市场的业务。据称Nextin已与一家未公开的中国客户签署了一项价值70亿韩元（合539万美元）的协议，购买一台Aegis 3机器。该模型的检测速度比Aegis 2快30%，计算性能为1.47TFLOPS。

Nextin不仅向SK海力士中国供应光学检测工具，还向一些中国芯片制造公司供应光学检测工具。目前尚不清楚Nextin是否继续在向中国运送的产品中使用源自美国的技术。

光学图形晶圆缺陷检测设备分为明场和暗场两大类别，两者的主要区别是：明场设备是收集晶圆表面垂直反射的光信号来分析缺陷，而暗场设备是收集晶圆表面散射回来的光信号来分析。如果晶圆表面是平整没有缺陷的，则明场设备反射回来的光是相对比较完整的入射光，而暗场设备的入射光则被全反射，其接收到的是散射光信号。随着设备行业不断发展，明场与暗场的定义也在变化，现在明场一般指的照明光路和采集光路在临近晶圆段共用同一个显微物镜，而暗场指照明光路和采集光路在物理空间上是完全分离的。因为垂直反射和散射光信号的差别，明场设备的检测灵敏度比暗场设备的高，但明场设备扫描速度也较慢。

Nextin的Aegis设备可以检测200毫米和300毫米晶圆，并且可以在明场和暗场模式下运行。明场法使用反射光，可以发现小至15纳米的缺陷。同时，依靠散射光的暗场方法可以检测达30纳米的缺陷。

量检测设备的灵敏度、精确性、产能与反应速度等性能指标，随着制程进步不断提升。同样大小的缺陷在成熟制程中是非致命的，在先进制程中却有可能是导致电路失效的致命性缺陷，这对量检测设备的灵敏度提出了更高的要求。一些特殊的集成电路结构，如超薄膜（厚度小于10埃）、极高深宽比、非破坏性的图形等结构的测量，也对量检测设备的3D成像能力、多次测量一致性等指标提出了特殊的要求。按照当下的标准，Nextin的Aegis工具分辨率听起来没有特别高，但尺寸为15纳米的缺陷仍然会严重破坏或损害14纳米或7纳米生产节点中结构的运行，因此其检测至关重要。光学检测工具比电子束或多电子束工具更快，这些光学检测工具如今已被广泛使用。客户不仅是晶圆厂，也可以是存储产品制造厂。

国产量检测设备市场

2022全球量检测设备市场规模超800亿人民币，中国国内市场规模2021年约为176亿人民币。量检测设备市场呈现出高度垄断的格局，行业前5名分别为科磊、应用材料、日立、泰雷光电创新科技。市场占比分别为50.8%，11.5%，8.9%，5.6%，5.6%，行业TOP3占据超70%的市场份额。市场整体被美日系企业把控。

量测设备各公司市场占比，来源：财通证券

科磊公司是全球最大的量检测设备生产商。2022年实现营业收入92.12亿美元，同比增长33.14%；其中服务收入19.10亿美元，占比20.74%；设备收入73.01亿美元，占比79.26%。公司2022年的研发支出达11.05亿美元。其产品种类丰富，覆盖几乎全部量检测设备细分类。在宏观晶圆形貌检测，无图形缺陷检测，有图形缺陷检测、掩膜版检测、刻套误差测量等领域。2022财年，科磊公司有26.6亿美元的收入来自中国大陆，占比28.88%；来自中国台湾的收入为25.28亿美元；占比27.45%。

科磊公司的量检测产品种类，来源：财通证券

量检测设备难度较大，2020年量检测设备国产化率只有2%。光学量检测设备中：有图形检测设备占比约31%；无图形检测设备占比约10%，掩膜版量检测设备占比约13%，光学关键尺寸量测占比约10%，套刻误差量测占比约7%，薄膜测量占比3%。国内代表的光学检测公司之一是中科飞测，中科飞测在光学量检测领域覆盖较为广泛。该公司产品主要用于前道晶圆制造和先进封装，分为检测设备和量测设备两大类。检测设备包括无图形晶圆缺陷检测设备、有图形晶圆缺陷检测设备；量测设备包括三维形貌量测设备、薄膜膜厚量测设备、套刻测量设备等。目前设备产品已应用于国内28纳米及以上制程的集成电路产线中。

从数据上看，2022年中国大陆光学类半导体量检测设备的进口额为33.14亿美元（220.56亿元）。同期，中国大陆电子显微镜与衍射仪进口额 12.26 亿美元（80.21 亿元，有部分电子显微镜与衍射仪用于集成电路生产）。如此大的市场机遇，谁能填补因为政策限制空缺的市场？

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