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Sandy Bridge只是巨人脚步中的一个脚印 Sandy Bridge-EX到底如何，其实还是要等待英特尔正式公布资料。而英特尔的CPU架构却在稳步的按计划的发展着。
英特尔的Sandy Bridge带来了256-bit长度的SIMD运算新指令“Advanced Vector Extensions (Intel AVX)”，第二代SNB Turbo。也许AVX没能带来如之前宣传中100%的浮点运算提升，但可以期待的是AVX指令集将改良X86 CPU指令的解码效率。AVX还引入了很多新的浮点运算指令，浮点运算能力加强，不光提升了3D游戏，还可以更有效的支持如复杂的flash显示，更快的SVG（可伸缩矢量图形）支持，更好的HTML5效果等等，相比用GPU计算来讲功耗更小，体积更小，成本也小，对GPU计算是个不大不小的冲击。 当年业界曾担心英特尔是否会受到半导体制程技术进步速度的影响，使得Tick-Tock战略受到影响。而随着今年初IBM 20nm晶圆的亮相，或许当初的担心其实是多余的？就像人们所说的，20年前，谁能想象Watson这样的人工智能计算机会出现在今天？ 《Made by IBM:世界第一块20nm晶圆亮相》 《IBM Watson VS人类》专题报道
英特尔将在下一代Haswell微架构中支持FMA指令集（Fused Multiply Accumulate, FMA。英特尔AVX的扩充指令集）。
新式半导体光刻技术中，极紫外光刻(EUV)被认为是最有前途的方法之一，不过其实现难度也相当高，从上世纪八十年代开始探寻至今已经将近三十年， 仍然未能投入实用。极紫外光刻面临的关键挑战之一就是寻找合适的光刻胶(photoresist)，也就是用来在芯片层表面光刻出特定图案的材料。它必须对极紫外辐射非常敏感，这样才能刻出图案，但同时又必须能够抵御随后的蚀刻和其他处理步骤。 英特尔公司内部一直在用微曝光设备(MET)对各种不同材料进行试验和评估，目的就是寻找一种能够同时满足高敏感度、高分辨率、低线宽粗糙度 (LWR)的光刻胶材料，最近终于取得了重大突破。 在2010年的国际光学工程学会(SPIE)举行的光刻大会上，英特尔就进行了这方面的展示，使用一种正型化学放大光刻胶(CAR)结合极紫外底层，以及一种相应的漂洗剂，最终达成了22nm半节距(half pitch)分辨率，并满足敏感度和LWR要求。 英特尔据此骄傲地宣布，经过数十年的不懈努力，极紫外光刻技术已经从研究层面迈向实用。[返回频道首页] |
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2011-02-22 03:20
出处：PConline原创
责任编辑：liuyu1
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